半导体行业深度分析报告:光刻为半导体设备之巅,冰山峰顶待国产曙光
摘要 : 本篇证券研究报告对光刻设备行业进行深度分析,指出光刻是半导体生产中最重要的工艺步骤,核心指标包括分辨率、聚焦深度、套刻精度、曝光功率及单位时间产能等,光刻设备具有高技术附加值,毛利率超过50%。虽然全球光刻设备市场规模超过180亿美元,中国大陆以成熟制程为主的半导体产线不断扩产,但国产光刻曝光设备尚处于实验阶段。然而,显影涂胶设备已覆盖浸没式ArFi工艺节点,突破动能强劲。光刻机上游零部件市场有待发掘,全球光刻零件市场至少约70亿美元,光刻机零件单个价值量高,技术难度大。建议关注苏大维格、茂莱光学、芯源微、精测电子、新莱应材、美埃科技、炬光科技、福晶科技等公司。风险提示为半导体行业景气度下滑、光刻设备需求不及预期、贸易保护主义因素导致国内晶圆厂扩产放缓、光刻设备与组件技术难度大、相关研发进度可能慢于预期。
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