半导体设备行业：ASML独领风骚，上微电寻国产光刻星火-西南证券-20181210.pdf
摘要 : 本研究报告针对半导体设备行业的光刻机市场进行了分析。光刻机是IC制造中最复杂和关键的工艺步骤，其核心设备被誉为半导体工业皇冠上的明珠。随着芯片尺寸的不断缩小，光刻技术不断进步，当前采用ArF/KrF光源的浸没式光刻机成为主流高端机型，更高端的则为极紫外光技术(EUV)，有望实现7nm甚至5nm制程。全球光刻机市场长期由ASML、尼康和佳能把持，ASML占据高端市场的绝对地位，市占率超过80%，其EUV技术垄断行业，下游大客户三星、台积电和Intel、格罗方德等均采用ASML的光刻机。国内的光刻机设备厂较少，大多以激光成像技术为主，国产化前路漫漫，上海微电子正在执“星星之火”，推动国产光刻技术的研发和产业化。整个行业的发展前景广阔，下游需求旺盛，上游技术亟待突破，投资者可以关注ASML、上海微电子等相关企业的业绩表现。
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